設備（bèi）用途：    

    利（lì）用真空蒸鍍方式生產矽的氧化物；

    適用於氧化亞矽等（děng）可氣相沉積材（cái）料大批量生產；溫差控製精度高，高溫高真空；具備高真空升華（huá），反應，脫脂，脫水（shuǐ），氣相沉積材料自動研（yán）磨刮料（liào），爐內收集等特殊工藝能力。

     設備特點：

      一次裝料量大， 生產效率（lǜ）高。
      全程全封閉（bì）全自動化作業，避免粉塵飛揚，生產現場環境整潔幹淨。
      溫度（dù）控製1500度以內，升溫（wēn）速（sù）率（lǜ）快。
      可以在真空度下保持穩定運行工作。

      設備參數：