氧化亞矽真空蒸餾爐

設備用途：氧化亞矽氣相沉積包覆爐，是利用真空蒸鍍法將粉碎後的所得元素摻雜金（jīn）屬矽與二氧化矽通（tōng）過真空蒸鍍（dù）工藝，製得（dé）元素摻雜氧化亞矽。

設備特點：

1、本公司自（zì）行設計生產的氧化亞矽氣相沉積包覆爐有兩種加熱方式（shì）（感應加熱、電阻加熱和中頻感應加熱（rè）），內部各（gè）溫區溫差在±5℃以內，能有（yǒu）效保證物料在內腔（qiāng）內的反應溫度均勻。加熱端（duān）溫度（dù）≤1400℃，收（shōu）集區溫度≤900℃。能充分滿足客戶用於氧化亞矽等可（kě）氣相沉（chén）積材料的燒（shāo）結工藝。

2、設備采用熱（rè）電偶接（jiē）觸式測溫控溫精度高，高溫真空度好，物料收集率高，具備物料烘幹、燒結、收集於一體等特點，其物料反應充分、收集率（lǜ）高等特點。

3、真空采用三級真空機組，油擴散泵+羅茨泵+機械泵+真空（kōng）閥門，以及我公司自行生產設計（jì）的真空過濾係統組成，具有真空度高，設備（bèi）能在高（gāo）溫、高真空環境（jìng）中長期使用。

設備常用尺寸規格：